“大家都知道，光刻机的主要性能指标有：分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长……”
“……”
“光刻机的曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为可见光：g线：436nm，紫外光（UV），i线……”
姜凡足足讲了一个多小时，才把把设计原理讲完！
所有人都被震惊的无以言表，姜凡所讲的设计原理，和他们之前研究的完全不一样。
听完姜凡的讲解，他们隐隐约约的好像明白了，他们为什么研究不出17纳米光刻机，因为从根本的研究方向就是错误的！
“大家对7纳米光刻机，还有什么不明白的地方，现在可以提问！”
“啥？”
“7纳米光刻机？”